Own by Erwin Olaf
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Own by Erwin Olaf

Own 2011

Erwin Olaf

Carta
71 ⨯ 51 ⨯ 5 cm
ConditionExcellent
€ 2.750

Galerie Mia Joosten Amsterdam

  • A proposito di opere d'arte
    Erwin Olaf (1959-2023)
    'Own'
    Boek
    Oplage nr. 288 van 300
    Gewicht: ca. 19 kg, Pagina's: 368
    Boek: H=71 x B=51 x D=5 cm
    Inclusief foto (Achterzijde gesigneerd)
    Foto: H=47 x B=47 cm
    Vraagprijs: € 2.750,-

    Dit betreft de luxe editie van 300 stuks die binnen 1 dag waren uitverkocht. Het boek OWN is een schitterend overzicht van Erwin Olaf's oeuvre van foto's, een bijzonder boek dat is samengesteld ter gelegenheid van de uitreiking van de Johannes Vermeer Prijs in oktober 2011 aan Erwin Olaf voor zijn omvangrijke en unieke werk en zijn vermogen telkens weer nieuwe wegen in te slaan. De jury oordeelt dat hij dat in zowel zijn vrije, als in zijn commerciële werk, heeft laten zien en dat Olaf de auteur is geworden van een oeuvre, dat passie voor het vak uitstraalt, uitzonderlijk rijk is in zijn beeldkwaliteit en beweeglijk in zijn ontwikkeling. En dat werk is over de hele wereld bekend als een van de meest omvang- en invloedrijke in de hedendaagse fotografie.
  • A proposito di opere artista

    Erwin Olaf, nato Erwin Olaf Springveld nel 1959 a Hilversum, è diventato uno dei fotografi olandesi più influenti e riconosciuti a livello internazionale. Con un'opera che abbraccia quattro decenni, è riuscito a fondere fotografia, cinema e arti visive in un linguaggio visivo distintivo, al contempo seducente e provocatorio.

    Olaf ha raggiunto la fama internazionale nel 1988, quando ha vinto il Young European Photographer Award con la sua serie Chessmen. Nei suoi primi lavori, ha esplorato esplicitamente temi come la sessualità, il potere e l'identità, spesso con una schiettezza cruda che all'epoca fu percepita come provocatoria. In seguito, il suo stile si è evoluto verso composizioni cinematografiche attentamente studiate, in cui luce, colore e messa in scena raggiungono una perfezione quasi pittorica. Serie come Berlin, Shanghai e Rain ritraggono momenti carichi di tensione, in cui una tensione latente rimane palpabile.

    Un motivo ricorrente nel suo lavoro è la vulnerabilità dell'individuo all'interno dei sistemi sociali e culturali. Olaf ha dato spazio a persone e storie che spesso esulano dalla norma, inclusa la comunità LGBTQ+, e ha sollevato interrogativi su bellezza, vergogna, solitudine e desiderio. Le sue immagini appaiono controllate ed esteticamente raffinate, eppure quasi sempre permeate da una forte carica emotiva o sociale.

    Oltre al suo lavoro autonomo, Olaf ha anche lavorato su commissione per media e marchi internazionali e ha realizzato ritratti di membri della famiglia reale olandese, tra gli altri. Le sue opere sono state esposte in tutto il mondo in musei e gallerie, tra cui il Rijksmuseum e lo Stedelijk Museum di Amsterdam, dove si è assicurato un posto di rilievo nel canone della fotografia contemporanea.

    Erwin Olaf è scomparso nel 2023, ma ha lasciato un'opera impressionante e influente che ha per sempre spinto i confini della fotografia. Il suo lavoro continua a risuonare per il modo in cui bilancia bellezza e disagio, controllo e vulnerabilità, spingendo così lo spettatore non solo a guardare, ma anche a sentire e riflettere.

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Artwork details

Categoria
Stile
Materiale e Tecnica